（来源：上观新闻）
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第五，是否需🧞♀️😳要警惕20🎸🥭28年产能🐱集中释🎀🗾放导致的🥊过剩风险？ 以下🇨🇨是关于上述五🗄📿点的具体分析：🔁🤪 存储双🧻雄EUV光刻机保5️⃣👡有量 日前，😡👺调研机构BOFA👨⚕️公布了🍂◾2021到😜2025🥈🌠年为止🍑的EUV光刻机数☕量，如下所🗑🕷示： 如图所🇾🇹示，三星的E🇸🇦🔯UV 🦆光刻机持有量已超😲🗿过SK🏚海力士的两倍🇳🇮，这一设备数量优🥘势直接映射到🇲🇵产能层面——®🈴在存储芯片制造中📩📜，光刻机部署密度🎀🦈是先进制程产能🦹♀️📹释放的核心约束条🇧🇿📡件，而多📷🌞层EUV光🌷刻更是1🐬0nm级📄以下工艺⛳量产的核心前提🇨🇲♌。
